CN119753686A 铜蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法 (上海盛剑微电子有限公司).pdfVIP

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  • 2026-06-04 发布于重庆
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CN119753686A 铜蚀刻液及其制备方法和蚀刻方法 (上海盛剑微电子有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119753686A

(43)申请公布日2025.04.04

(21)申请号202411961997.7

(22)申请日2024.12.27

(71)申请人上海盛剑微电子有限公司

地址201400上海市奉贤区舜工路38号24

(72)发明人张伟明刘明辉聂航衡京

章学春

(74)专利代理机构北京超凡宏宇知识产权代理

有限公司11463

专利代理师黄燕

(51)Int.Cl.

C23F1/18(2006.01)

C23F1/44(2006.01)

权利要求书2页说明书18页

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