CN119650230A 钕铁硼磁体及其制备方法和应用 （福建省金龙稀土股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119650230A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202311159835.7

(22)申请日2023.09.08

(71)申请人福建省金龙稀土股份有限公司

地址366300福建省龙岩市长汀经济开发

区工业新区

(72)发明人汤志辉李可陈大崑许德钦付刚黄佳莹王金磊李志刚黎国妃

(74)专利代理机构上海弼兴律师事务所31283

专利代理师张云燕

(51)Int.Cl.

H01F1/057(2006.01)

H01F41/02(2006.01)

权利要求书2页说明书8页附图4页

(54)发明名称

钕铁硼磁体及其制备方法和应用

(57)摘要

CN119650230A本发明公开了一种钕铁硼磁体及其制备方法和应用。其包括沿垂直于取向方向依次分布的第一易退磁区、第一过渡区、非易退磁区、第二过渡区、第二易退磁区，第一易退磁区、第二易退磁区、非易退磁区、第一过渡区和第二过渡区均为矩形；第一易退磁区与第二易退磁区的HRE质量浓度相同；第一过渡区与第二过渡区的HRE质量浓度相同；非易退磁区与第一易退磁区的HRE质量浓度比为(0.3_0.95)：1；第一过渡区与第一易退磁区HRE质量浓度比为(0.9_1)：1；其中，HRE为Dy