CN119596633A 粗糙度优化方法及装置 （上海传芯半导体有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119596633A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202411946207.8

(22)申请日2024.12.26

(71)申请人上海传芯半导体有限公司

地址201306上海市浦东新区中国（上海）

自由贸易试验区临港新片区沧海路

2685号1幢

(72)发明人林岳明

(51)Int.Cl.

G03F1/72(2012.01)

G03F1/38(2012.01)

G03F1/00(2012.01)

G03F1/84(2012.01)

G03F1/68(2012.01)

G03F1/80(2012.01)

G03F1/