镀膜材料基础知识.pptVIP

*大家好;１：光学薄膜材料薄膜的制镀;１.１：光学薄膜的基本要求良好;１.１.1：透明度介电质材;一般介电质材料在中红外区就出现;透明度的降低可分为吸收和散射两;半导体材料由于△E很小，自由载;光学材料的透明区前端为基本;１.１.２：折射率薄膜的折;(1):与组成膜的化学元素有关;(2):与构成膜的晶态有关;(3):与成膜的晶粒大小及堆积;其他例子如氧化物膜：TiO2,;(4):与膜的化学成分有关;１.１.3：堆积密度上面讨;１.１.4：散射当薄膜有微;１.１.5：薄膜均匀性除非;１.１.6：机械性质，硬度，附;膜层的应力会影响到它的牢固性．;１.１.7：化学稳定性膜性;有的化学变化会来自薄膜材料与基;１.１.8：辐射能量的承受;１.2：常用光学薄膜的制镀与特;铝(Al),银(Ag),金(A;在真空紫外区,金属膜的n和k都;下表列出了几种常用金属膜的光学;可以看出,金属膜不但吸收较大,;一般氧化膜容易在成膜的时候失氧;下面讲的不强调薄膜的折射率和消;TiO2TiO2的折;以电子枪蒸镀为例，一般都会觉得;TiO2材料在真空中加热蒸发时;Ti2O3的热性质比较稳定,蒸;综上所述,不论采用何种初始材料;Ta2O5Ta2;Nb2O5Nb2;ZrO2ZrO2;但ZrO2的非均匀性比其他材料;HfO