CN119698688A 蚀刻方法和等离子体处理系统 （东京毅力科创株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119698688A

(43)申请公布日2025.03.25

(21)申请号202380059416.8

(22)申请日2023.08.08

(30)优先权数据

2022-1316952022.08.22JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.12

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0289582023.08.08

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/043082JA2024.02.29

(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本

(72)发明人泽