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光刻胶研发合作协议

一、协议主体

甲方：____________________（光刻胶材料研发机构）

住所地：____________________

乙方：____________________（微电子技术企业）

住所地：____________________

甲乙双方经友好协商，就光刻胶联合研发项目达成协议。

二、合作内容

（一）研发目标

开发适用于某纳米制程节点的负性光刻胶配方，满足分辨率、线宽粗糙度及感光度等技术指标（具体参数见附件一）。

（二）研发分工

甲方负责基础树脂合成与配方设计，乙方负责光刻工艺适配性测试及反馈优化。双方每月交换实验数据并召开技术联席会。

（三）研发周期

项目自协议生效日起持续某年个月，分三期推进：首期完成小试样品，二期完成中试验证，三期完成量产稳定性测试。

三、权利义务

（一）甲方义务

提供专用实验室及价值________元的研发设备使用权；承担基础原料采购费用；确保研发数据保密性。

（二）乙方义务

提供晶圆厂某纳米线光刻机测试机时；派驻两名工程师参与联合实验；按月提交工艺验证报告。

（三）共有权利

双方对研发成果享有平等使用权，未经协商一致不得单方向第三方披露核心配方。

四、知识产权

（一）背景技术

各方原有专利技术权属不变。甲方已有树脂合成专利（专利号：ZL________）仍归甲方所有。

（二）联合成果

研发期内产生的技术改进及新配方专