ASTM D7980-21 中文版 半导体制造用超纯水颗粒污染控制标准指南.docxVIP

ASTMD7980-21中文版半导体制造用超纯水颗粒污染控制标准指南

标准基础信息

标准编号：ASTMD7980-21

标准英文原名：StandardGuideforControlofParticulateContaminationinUltrapureWaterUsedinSemiconductorManufacturing

发布机构：美国材料与试验协会（ASTMInternational）

发布日期：2021年06月

替代版本：ASTMD7980-15

标准核心定位：半导体行业超纯水（UPW）颗粒污染专项管控权威指南，针对先进制程晶圆制造中超纯水纳米级悬浮颗粒、胶体颗粒引发的光刻缺陷、晶圆表面微尘、电路短路良率损耗问题，规定全工艺流程颗粒管控阈值、采样方法、检测设备选型、管网污染溯源、运维防控方案，是SEMIF63水质颗粒指标配套落地执行指南

联动配套标准：SEMIF63-24（UPW全水质强制指标）、SEMIF61-0521（UPW管路运维防二次污染规范）、ASTMD8560-25（UPW系统能耗优化标准）、ASTMD6888（水中液态颗粒计数检测方法）、ISO14644-8（洁净流体颗粒污染分级）

编制说明：本文为ASTMD7980-21官方完整版精准汉化文档，无原文语义删减；同步增补2021版相较于2015版改版要点、