CN119744203A 涂敷头、涂敷装置以及涂敷方法 （株式会社东芝）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119744203A

(43)申请公布日2025.04.01

(21)申请号202380061041.9

(22)申请日2023.03.08

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.20

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0088782023.03.08

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/185089JA2024.09.12

(71)申请人株式会社东芝

地址日本

申请人东芝能源系统株式会社

(72)发明人信田直美内藤胜之平冈俊郎户张智博

(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司

72002

专利代理师夏斌

(51)Int.Cl.

B05C5/02(2006.01)

B05C11/10(2006.01)

B05D1/26(2006.01)

权利要求书2页说明书5页附图3页按照条约第19条修改的权利要求书2页

按照条约第19条修改的声明或说明1页

(54)发明名称

涂敷头、涂敷装置以及涂敷方法

(57)摘要

CN119744203A根据实施方式，提供涂敷头、涂敷装置以及涂敷方法，能够形成均匀的涂敷膜且用于通过狭缝涂敷来形成涂敷膜。该涂敷头具备：歧管，在内部暂时存积涂敷液；狭缝，排出存积在上述歧管内的