CN119758662A 一种抗反射层的厚度确定方法 （粤芯半导体技术股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119758662A

(43)申请公布日2025.04.04

(21)申请号202510259300.X

(22)申请日2025.03.06

(71)申请人粤芯半导体技术股份有限公司

地址510700广东省广州市黄埔区凤凰五

路28号

(72)发明人石方毅曾辉李月姜晓晴张淼华李贵琦周卓弘

(74)专利代理机构北京超凡宏宇知识产权代理

有限公司11463

专利代理师高燕

(51)Int.Cl.

G03F1/46(2012.01)

G03F1/44(2012.01)

G03F1/36(2012.01)

G03F7/20(2006.01)

权利要求书2页说明书12页附图8页

(54)发明名称

一种抗反射层的厚度确定方法

(57)摘要

CN119758662A本申请提供了一种抗反射层的厚度确定方法，其中，该方法包括：获取待曝光晶圆对应的目标区域图形的图形文件；获取至少一个预设窗口图形和所述目标区域图形分别对应的预设抗反射层厚度；将所述图形文件和所述预设抗反射层厚度输入至光学临近修正模型来执行光学模拟，得到每个预设抗反射层厚度对应的光强随坐标产生变化的模拟曲线；在每个预设抗反射层厚度对应的所述模拟曲线中，确定出所述目标区域图形的预设位