脑膜瘤电导特性无创评估：基于电特性断层成像研究.pdfVIP

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脑膜瘤的电导特性：使用电特性断层成

像进行无创评估

KhinKhinTha1，UlrichKatscher2，ChristianStehning2，ShigeruYamaguchi3，

ShunsukeTerasaka3，HiroyukiSugimori3，ToruYamamoto4，NoriyukiFujima3，

KohsukeKudo3，YurikoSuzuki5，MarcvanCauteren5，HirokiShirato1

1北海道大学医学院，北海道札幌市，2研究，德国汉堡，3北

海道大学医院，，4北海道大学健康科学院，，5电子公司，

目标受众：从事脑成像和通过MRI进行电导无创测量的科医生、科学家和临床医生

背景和目的：在手术中用于定位脑的阻抗测量报告称，脑膜瘤具有高电阻抗，即低电

导率1。然而，仅评估了五例病例，尚不清楚电导率是否可以用来区分脑膜瘤与其他，

特别是那些MRI特征相似的（例如