SEMI F92-23 中文版 12英寸晶圆厂超纯水回用与零排放技术标准指南.docxVIP

SEMIF92-23中文版12英寸晶圆厂超纯水回用与零排放技术标准指南

文档前言

本文件等同转化SEMIF92-23原版国际标准全文技术条款，结合国内12英寸晶圆制造厂（28nm~3nm先进逻辑芯片、DRAM/NAND存储芯片）量产实际用水工况、国家工业节水及双碳管控政策、半导体行业污水固废处置规范完成本土化适配修订。区别于8英寸及以下老旧晶圆厂用水标准，本标准专门针对12英寸晶圆厂单片耗水量大、制程水质要求极致严苛、产线连续24h不间断运行、浓水含盐量高且污染物组分复杂、停线容错率极低五大核心痛点，建立全流程超纯水梯级回用、分质供水、浓水全量减量、全厂废水零排放一体化技术体系。

本标准衔接SEMIF50-22膜组件验收标准、SEMIF104-22部件颗粒析出标准、SEMIF63水质监测通用标准，形成半导体超纯水系统从设备验收、部件洁净管控、水质在线监测到末端废水回用零排放的全套闭环标准体系。文件明确12英寸晶圆厂各制程排水水质分级、回用路径边界、工艺选型阈值、能耗碳排指标、运维安全规范及系统验收要求，既可作为新建12英寸晶圆厂纯水系统设计依据，也可用于存量厂区节水改造、环保合规核查、第三方审计及量产日常运维管控，兼顾制程良率保障、水资源节约与环保合规三重核心需求。

1范围

1.1适用范围

1.1.1本指南规定了12英寸半导体晶圆制造厂超纯水排水分类、梯级回用