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光刻机工件台方镜面形检测：子孔径拼接干涉测量技术的深度剖析与创新应用

一、引言

1.1研究背景与意义

1.1.1光刻机在半导体制造中的关键地位

在当今数字化时代，半导体产业作为信息技术发展的基石，其重要性不言而喻。而光刻机，作为半导体制造过程中的核心设备，扮演着至关重要的角色，被喻为半导体产业皇冠上的明珠。

从半导体芯片的制造流程来看，光刻环节是其中最为关键且复杂的一步，它占芯片制造成本的30%，耗时更是占整个硅片工艺的40%-60%，成为芯片量产的核心瓶颈。光刻技术的核心是将掩模版上的电路图案精确地复制到硅片上，其分辨率直接决定了芯片中晶体管的尺寸和集成度。随着科技的飞速发展，为