CN119799047A 一种大直径单晶硅用高性能坩埚涂层及其制备方法 （北京麦竹吉科技有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119799047A

(43)申请公布日2025.04.11

(21)申请号202510311584.2

(22)申请日2025.03.17

(71)申请人北京麦竹吉科技有限公司

地址100085北京市海淀区上地信息路1号

1号楼21层2102-1

(72)发明人陶莹

(74)专利代理机构北京京智汇一专利代理事务所(普通合伙)16374

专利代理师王亮

(51)Int.Cl.

C09D1/00(2006.01)

C09D7/61(2018.01)

C09D7/65(2018.01)

C09D5/10(2006.01)

权利要求书1页说明书7页附图2页

(54)发明名称

一种大直径单晶硅用高性能坩埚涂层及其

制备方法

(57)摘要

CN119799047A本发明属于涂层材料技术领域，具体是指一种大直径单晶硅用高性能坩埚涂层及其制备方法，其中一种大直径单晶硅用高性能坩埚涂层，由以下重量份原料制备而成：涂层复合物10_15份、复合胶体物5_8份、镁粉1份、SiC2_5份和石英纤维0.5份；本发明以Al2O3与氮化硼共热得氮化铝为主体，加碳粉形成Al_C键，增强抗高温性和稳定结构；对其醇化并用硅烷偶联剂处理，提高吸附性，加镁粉除氧的同时生成MgO，提升耐温和抗腐