去除光刻胶的溶液配方及实际应用.pdfVIP

（19）中华人民共和国国家知识产权局

（12）发明专利申请

液及其应用摘要本发明提供了一种去除光刻胶的溶液及其应用所述溶液包括组分和组分组分为硫酸和过氧化氢混合溶液组分为聚乙二醇辛基苯基醚使用时将组分和组分按的重量比混合本发明首次将聚乙二醇辛基苯基醚作为表面活性剂用于去除光刻胶的溶液中它可溶于水容易

（10）申请公布号

CN103076725A

（43）申请公布日2013.05.01

（21）申请号CN201310039421.0

（22）申请日2013.01.31

（71）申请人北京七星华创电子股份有限公司

地址100015北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层

（72）发明人唐·伯克曼;阴志先;马嘉

（74）专利代理机构北京路浩知识产权代理有