CN119812032A 用于电涡流传感器的标定方法、厚度测量方法、装置及化学机械抛光设备 (华海清科股份有限公司).docxVIP

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  • 2026-06-29 发布于山西
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CN119812032A 用于电涡流传感器的标定方法、厚度测量方法、装置及化学机械抛光设备 (华海清科股份有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119812032A

(43)申请公布日2025.04.11

(21)申请号202510206389.3

(22)申请日2024.11.13

(62)分案原申请数据

202411612206.X2024.11.13

(71)申请人华海清科股份有限公司

地址300350天津市津南区咸水沽镇聚兴

道11号

(72)发明人田芳馨路新春王同庆赵德文刘杰

(51)Int.Cl.

H01L21/66(2006.01)

G01B7/06(2006.01)

B24B37/015(2012.01)

B24B49/10(2006.01)

B24B37/10(2012.01)

B24B37/34(2012.01)

B24B57/02(2006.01)

权利要求书4页说明书15页附图7页

(54)发明名称

用于电涡流传感器的标定方法、厚度测量方

法、装置及化学机械抛光设备

(57)摘要

CN119812032A本申请提供了一种用于电涡流传感器的标定方法、厚度测量方法、装置及化学机械抛光设备,该方法包括:在对晶圆进行化学机械抛光前,获取电涡流传感器的信号源产生的第一激励信号;在对晶圆进行化学机械抛光的过程中,获取电涡流传感器的信号源产生的第二激励信号,并获取

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