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毕业设计（论文）

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TiO2薄膜发展现状及APCVD制备掺氮TiO2性能研究

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TiO2薄膜发展现状及APCVD制备掺氮TiO2性能研究

摘要：TiO2薄膜作为一种重要的光催化材料，在环境保护、能源转换等领域具有广泛的应用前景。本文综述了TiO2薄膜的发展现状，重点介绍了原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）等制备方法，并对掺氮TiO2薄膜的性能进行了研究。通过原子层沉积法制备的掺氮TiO2薄膜具有优异的光催化性能，其光催化活性、稳定性和可回收性均得到了显著提高。本文详细讨论了掺氮TiO2薄膜的制备工艺、结构特征、光催化性能及其影响因素，为TiO2薄膜的研究和应用提供了新的思路。关键词：TiO2薄膜；掺氮；光催化；原子层沉积；化学气相沉积

前言：随着全球环境问题的日益严重，光催化技术作为一种绿色、可持续的环保技术，引起了广泛关注。TiO2作为一种重要的光催化剂，具有无毒、稳定、成本低等优点，在光催化领域具有广泛的应用前景。然而，TiO2的光吸收性能较差，限制了其在实际应用中的效果。因此，提高TiO2的光吸收性能和光催化活性成为研究的热点。本文通过对TiO2薄膜的制备方法、结构特征、光催化性能等方面的研究，为提高TiO2薄膜的性能