场景01 光学与波动（3年汇编）（上海专用）（解析版）.docxVIP

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场景01光学与波动

考点分类

三年考情（2024-2026）

命题规律

光学与波动场景

2024年神秘的光

2025年浦济之光

2026年光刻技术

情境：前沿科技（光刻/浦济之光）包装，导语逐年贴近产业

考点：双缝干涉3年必考第1题，偏振2年必考，量子光学权重递增（光子能量→德布罗意波长）

实验：双缝干涉是锚定实验，折射率偶考

综合：纯光学→光学+电磁偏转→光学+量子力学，跨域逐年加深

（2026·上海·高考真题）光刻技术

光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生