集成电路有机废水处理技术研究进展与趋势处理难点.docx

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集成电路有机废水处理技术研究进展与趋势处理难点

说明

集成电路制造过程中广泛使用氯气、次氯酸钠、过氧化氢等强氧化性化学品进行蚀刻和清洗，这些化学试剂在反应过程中会产生大量含氯有机废水，其COD值往往高达数千甚至上万mg/L，属于高浓度有机废水范畴。由于蚀刻液和清洗液的消耗，废水中普遍存在高浓度的酸（如盐酸、硫酸、硝酸）和碱（如氢氧化钠、石灰水）。这种高浓度有机废水与强酸强碱的剧烈耦合，会引发剧烈的pH值波动和化学反应，导致废水中除COD和BOD外，还存在大量未反应的化学试剂、反应中间体以及复杂的有机络合物。这种环境对处理工艺的腐蚀性极强，且容易生成难降解的高分子有机大分子和毒性较大的