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磁控溅射设备校准规范

磁控溅射设备校准规范

一、真空系统与气体供给参数校准在磁控溅射设备校准规范中的核心地位

磁控溅射设备的工艺稳定性首先取决于真空环境的纯净度与工艺气体的精确控制，因此真空系统与气体供给参数的校准是整套设备校准规范中最基础也最重要的组成部分，只有确保这两项参数测量准确，后续的溅射功率、沉积速率及膜层均匀性校准才有意义。

（1）本底极限真空度与抽气速率的校准。本底极限真空度是指磁控溅射腔体在经过充分烘烤除气或长时间抽气后所能达到的最低稳定压力值，是判断真空系统密封性能和泵组能力的首要指标。校准时应选用经计量检定合格的标准电离真空计（符合JJG162-2019《真空计检定规程