CN119836681A 基板处理装置的控制方法和基板处理系统 （东京毅力科创株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119836681A

(43)申请公布日2025.04.15

(21)申请号202380062542.9

(22)申请日2023.06.28

(30)优先权数据

2022-1071412022.07.01JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.27

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0239112023.06.28

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/005047JA2024.01.04

(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本

(72)发明人熊仓翔

(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277

专利代理师刘新宇李靖

(51)Int.Cl.

H01L21/3065(2006.01)

权利要求书3页说明书19页附图12页

(54)发明名称

基板处理装置的控制方法和基板处理系统

(57)摘要

CN119836681A提供一种基板处理装置的控制方法和基板处理系统。包括以下工序：a)对被处理体局部地进行蚀刻来在所述被处理体形成凹部；b)在形成于所述被处理体的凹部的侧壁形成保护膜；c)对形成有所述凹部和所述保护膜的被处理体进一步进行蚀刻；d)重复所述b)和所述c)；e)对通过所述a)至所