光电子芯片——基础、应用及制造 课件 第9章 光电子芯片制造技术与工艺.pptx

1;9.1概述

9.1.1芯片制造工艺流程简介;图9.1.1芯片制造工艺主要流程;图9.1.2布拉格光栅制造示意图

a）用紫外干涉光曝光制作光纤布拉格光栅

b）在InP衬底表面涂光刻胶，曝光、显影刻蚀产生凹槽、扩散/

离子注入掺杂，最后产生布拉格光栅芯片;图9.1.3马赫-曾德尔幅度调制器（图3.2.4）的制作示意图

a）在衬底上钛扩散（离子注入）产生LiNbO3波导，蒸镀产生金属共平面电极b）刻蚀产生凹槽，蒸镀产生电极;图9.1.4RZ-DQPSK传输系统光发送机（图2.2.5）

芯片照相掩膜版;图9.1.5光纤传输正交频分复用（O-OFDM）发送机