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单晶刻蚀碱抛工艺专业考核试题（含详细答案）

适用岗位：电池片制程刻蚀工艺员、操作员、技术员

考试时长：90分钟满分：100分

考试说明：本试题围绕单晶PERC电池碱式刻蚀、双面碱抛生产工艺出题，贴合车间实际生产工况，题型包含填空题、判断题、选择题、简答题、异常分析题，全员闭卷作答。

一、填空题（每空1分，共20分）

单晶硅片碱刻蚀制绒核心原理是利用______与硅发生化学反应，去除硅片表面损伤层并形成______结构。

常规单晶碱抛刻蚀槽主要药液成分为：氢氧化钠、______、______以及去离子水。

硅片与氢氧化钠反应的主要化学反应方程式：____________、__________