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宏微两级驱动：大行程高精度二维定位平台的关键技术解析与创新突破

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的浪潮下，诸多前沿领域对高精度定位技术展现出了极高的依赖程度，大行程高精度定位技术已成为推动众多领域进步的关键因素。在半导体制造领域，芯片的集成度不断攀升，对光刻设备的定位精度提出了极为严苛的要求。以7纳米及以下制程工艺为例，光刻定位精度需达到纳米级，才能确保芯片上的电路图案精准成型，从而实现芯片性能的大幅提升。在光学仪器制造中，如高端望远镜的镜片研磨与装配，高精度定位技术可保障镜片的相对位置精度达到亚微米级，极大地提高望远镜的成像质量，使人类能够更清晰地观测宇宙天体。在