喷射优化与椭圆分布模型在喷涂工艺中应用研究.pdf

喷射优化与椭圆分布模型在喷涂工艺中应用研究.pdf

喷射计划问题

在釉喷涂工艺过程中,喷雾所覆盖的平面上的区域为椭圆形,喷射单点喷涂的

模型符合椭圆双分布模型,为了使得喷涂的成品更完美,需要优化喷涂路径使得

涂料覆盖更加均匀。

−1

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档