CN120020281A 设定遮蔽体的进退动作方案的方法以及镀覆装置 （株式会社荏原制作所）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN120020281A

(43)申请公布日2025.05.20

(21)申请号202411483468.0

(22)申请日2024.10.23

(30)优先权数据

2023-1966162023.11.20JP

(71)申请人株式会社荏原制作所地址日本

(72)发明人藤木雅之新岛史裕长泽畅亮出口和摩

(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限

公司11227

专利代理师胡乃锐

(51)Int.Cl.

C25D21/12(2006.01)

C25D17/00(2006.01)

C25D7/12(2006.01)

权利要求书2页说明书10页附图7页

(54)发明名称

设定遮蔽体的进退动作方案的方法以及镀

覆装置

(57)摘要

CN120020281A本发明提供能够提高形成于基板的镀覆膜的均匀性的方法、镀覆装置。一种方法，在计算机中设定具备遮蔽体的镀覆装置中的上述遮蔽体的进退动作方案，上述遮蔽体能够向介于基板的被镀覆面与阳极之间的遮蔽位置、和从上述基板的上述被镀覆面与上述阳极之间退避的退避位置移动，该方法包括如下步骤：获取上述基板的抗蚀图案；基于获取到的上述抗蚀图案来计算上述基板的每个规定角度区域的镀覆生长系数；以及基于计算出的上述镀覆生长系数来设定上述