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电子薄膜用高纯铜溅射靶材技术方案.docx

电子薄膜用高纯铜溅射靶材技术方案.docx

    电子薄膜用高纯铜溅射靶材技术方案

    目录TOC\o1-4\z\u

    一、项目总体概述 4

    二、高纯铜原料选型要求 5

    三、高纯铜提纯工艺方案 7

    四、靶坯成型工艺设计 8

    五、靶坯致密化烧结工艺 10

    六、靶材精加工工艺路线 12

    七、靶材性能检测指标体系 16

    八、纯度及杂质检测方法 19

    九、微观组织检测方案 22

    十、力学性能检测方法 25

    十一、溅射性能测试方法 27

    十二、全流程质量控制体系 29

    十三、原料入厂质控标准 31

    十四、生产过程质控要点 32

    十五、成品出厂质控规范 34

    十六、核心工艺装备

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