VLSI系统设计2精品课件.pptxVIP

（1）本章概要：设计与工艺接口问题工艺抽象电学设计规则几何设计规则工艺检查与监控基本问题设计与仿真依据工艺监控和提模手段设计与工艺接口

（2）2.1设计与工艺接口问题基本问题—工艺线选择设计的困惑设计与工艺接口.1电路硬件与版图设计+工艺制造=IC芯片

（3）2.1.1基本问题—工艺线选择一条成熟的工艺线，各项工艺参数都是一定的，不允许轻易变更，而这些参数往往就成为我们设计的制约因素。因此，设计之初必须考虑：这条工艺线对我的设计是否合适。.1设计之初的重要问题：选择工艺和工艺线怎么知道是否合适呢？需要了解工艺！！！※

（4）.12.1.1基本问题—工艺线选择首先了解器件的制造器件结构关键：形成PN结组合与尺度效应PNNPNp-JFETNMOSCMOSSCR注意集成器件的电流走向！

（5）2.1.1基本问题—工艺线选择器件和电路选择掺杂互连图形（版图）窗口和屏蔽掺杂图形（版图）导线绝缘图形转移（光刻）材料沉积掺杂技术氧化及热处理器件结构关键：形成PN结组合与尺度效应.1

（6）.12.1.1基本问题—工艺线选择CMOS倒相器的制造

（7）.1

（8）.1

（9）2.1.2设计的困惑电参数：应用萨方程衬偏效应(γ系数)上升、下降时间（负载电