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原子层沉积术语标准立项发展报告

EnglishTitle:StandardizationDevelopmentReport:AtomicLayerDeposition—Vocabulary

摘要

本报告围绕国际标准ISO8181:2023《原子层沉积—术语》的发布背景、技术内容与行业应用展开论述。随着纳米技术与半导体制造工艺的持续演进，原子层沉积（ALD）作为一种能够实现亚纳米级精度薄膜制备的关键技术，在微电子、新能源、催化及生物医学等领域发挥着日益重要的作用。然而，由于该领域术语体系庞杂且缺乏统一规范，导致学术界与工业界在技术交流、文献解读及设备采购过程中存在显著障碍