半导体金属化方案
目录TOC\o1-4\z\u
一、方案总则 3
二、项目目标与范围 4
三、封装金属化需求分析 7
四、金属化技术路线选择 9
五、材料体系与适配原则 12
六、基底界面处理要求 16
七、金属薄膜结构设计 18
八、沉积工艺选择 24
九、光刻图形化要求 27
十、刻蚀与去除工艺 28
十一、钝化层设计要求 30
十二、键合层设计要求 32
十三、阻挡层设计要求 33
十四、导电互连设计要求 35
十五、厚膜与薄膜协同方案 37
十六、应力与翘曲控制 39
十七、可靠性设计要求 41
十八
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