CN120166764A 自对准高压cmos器件的制造方法 (华虹半导体(无锡)有限公司).pdfVIP

  • 1
  • 0
  • 约9.53千字
  • 约 12页
  • 2026-08-04 发布于重庆
  • 举报

CN120166764A 自对准高压cmos器件的制造方法 (华虹半导体(无锡)有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN120166764A

(43)申请公布日2025.06.17

(21)申请号202510379384.0

(22)申请日2025.03.28

(71)申请人华虹半导体(无锡)有限公司

地址214028江苏省无锡市新吴区新洲路

30号

(72)发明人许昭昭

(74)专利代理机构上海浦一知识产权代理有限

公司31211

专利代理师陈钧

(51)Int.Cl.

H10D84/01(2025.01)

H10D84/03(2025.01)

H10D84/85(2025.01)

权利要求书2页说明书4页

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档