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12英寸晶圆厂超纯水（UPW）系统设计方案（2026正式版）

合规基准：ASTMD7980半导体超纯水杂质检测与系统设计指南+CECS118-2024《电子工业纯水系统设计规范》

适用场景：新建/改扩建12英寸逻辑、存储、特色工艺晶圆制造工厂；可直接用于可研、初步设计、施工图技术标书。

说明：【】内为项目待填充参数；所有设计条款同步满足国内工程规范与国际半导体UPW标准，兼顾审图合规与Fab良率管控要求。

目录

项目概述与设计依据

设计基础条件（原水、水量、水质目标）

总体工艺路线设计

各处理单元详细设计

输配管网与循环系统设计（CECS118-2024强制条款）

材质规范、设备选型标准

在线监测、自控与联锁系统

电气、暖通、土建配套要求

节能、浓水回用与环保设计

系统冲洗、调试与验收标准（双标准验收）

运行维护方案、风险冗余设计

投资与运维简要估算

1项目概述与设计依据

1.1项目概况

本项目为【】12英寸集成电路晶圆制造厂超纯水制备及分配系统，为光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、湿法清洗、CMP等全制程提供半导体一级超纯水（UPW）。系统全年连续7×24h运行，满足量产峰值负荷，允许单台核心设备离线检修而不中断产线供水。

1.2编制标准（强制清单）

CECS118-2024《电子工业纯水系统设计规范》（国内首要执行规范）

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