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- 2026-08-25 发布于北京
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光刻用掺钛石英玻璃标准立项发展报告
StandardizationDevelopmentReport:Titanium-DopedSilicaGlassforLithography
摘要
光刻用掺钛石英玻璃是集成电路制造中深紫外(DUV)及极紫外(EUV)光刻技术不可或缺的关键光学材料,其热膨胀系数近零、光学均匀性优异,直接决定了光刻成像质量与芯片制程良率。长期以来,该高端材料市场主要由日本、美国等少数企业垄断,我国相关产品在纯度、均匀性及批次稳定性方面存在明显差距,且缺乏统一的国家标准予以规范和引领。本报告以GB/T45826-2025《光刻用掺钛石英玻璃》为研究对象,系统论述了该标准的立项背景、编制原则、核心技术指标及其产业导向作用。标准明确了掺钛石英玻璃的术语定义、分类分级、技术要求、试验方法、检验规则及标志包装等内容,填补了我国在该领域的标准空白。本报告指出,该标准的发布实施将有效推动关键材料国产化替代进程,引导产业技术升级,并为我国半导体产业链供应链安全提供坚实支撑。未来,应进一步加强检测能力建设、强化标准宣贯实施并持续跟踪国际先进水平,推动我国光刻材料标准体系不断完善。
关键词:光刻;掺钛石英玻璃;国家标准;热膨胀系数;半导体材料;国产化;标准化
Keywords:Lithography;Titanium-DopedSilicaGlass;Na
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