原子层沉积——原子层沉积前驱体的化学特性及相关工艺规范 标准立项发展报告.docx

原子层沉积——原子层沉积前驱体的化学特性及相关工艺规范标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:Atomiclayerdeposition—Chemicalcharacteristicsandrelatedprocessspecificationsofatomiclayerdepositionprecursors

摘要

随着半导体制造、新能源、纳米催化及先进功能材料领域的飞速发展，原子层沉积技术凭借其优异的薄膜厚度可控性、保形性和成分精确性，已成为高端制程中不可或缺的核心薄膜制备技术。前驱体作为原子层沉积工艺的物质基