CN119855824A 核酸的制造方法、杂质的去除方法以及杂质少的核酸 (株式会社日本触媒).docxVIP

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  • 2026-09-09 发布于山西
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CN119855824A 核酸的制造方法、杂质的去除方法以及杂质少的核酸 (株式会社日本触媒).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119855824A

(43)申请公布日2025.04.18

(21)申请号202380064067.9

(22)申请日2023.09.01

(30)优先权数据

2022-1421502022.09.07JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.03.06

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0320852023.09.01

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/053578JA2024.03.14

(71)申请人株式会社日本触媒地址日本

(72)发明人野村友美四十庆佑田中优贵

(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277

专利代理师刘新宇李恩华

(51)Int.Cl.

C07H21/04(2006.01)

权利要求书1页说明书12页序列表(电子公布)

(54)发明名称

核酸的制造方法、杂质的去除方法以及杂质

少的核酸

(57)摘要

CN119855824A本发明是一种核酸的制造方法等,其包括:步骤A,合成碱基部分的氨基被酰基系保护基保护的核酸;步骤B,使步骤A中得到的核酸在中性或酸性的pH条件下与亲核试剂接触;以及步骤C,对步骤B中得到的核酸的保护基进行脱保护。根据本发明,能降低

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