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- 2026-09-14 发布于北京
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高纯钼粉标准立项发展报告
StandardizationDevelopmentReport:High-purityMolybdenumPowder
摘要
高纯钼粉是钼深加工产业链的关键基础材料,广泛应用于溅射靶材、显示面板、光伏电池、半导体集成电路、航空航天高温部件、核工业屏蔽与发热体、电子封装及增材制造等领域。随着我国半导体、新型显示、新能源等战略性新兴产业快速发展,下游市场对高纯钼粉的纯度、杂质元素控制、氧含量、粒度分布、松装密度、振实密度和流动性等指标提出了更高要求。YS/T1844-2026《高纯钼粉》是有色金属行业重要标准,标准编号为YS/T1844-2026,标准名称为高纯钼粉,标准状态为未实施,实施日期为2026-11-01。该标准系统规定了高纯钼粉的牌号分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及质量证明书等内容,重点对杂质元素、氧含量和物理性能进行规范。该标准的制定填补了我国高纯钼粉行业标准空白,与现有钼粉国家标准、粉末冶金方法标准形成配套。本报告从立项背景、必要性、主要内容、协调性、实施安排、预期效益和归口标委会等方面进行分析,认为该标准有利于统一产品质量评价、促进技术进步、推动高端钼粉国产化和对外贸易,为钼产业链高质量发展提供标准支撑。
关键词
中文关键词:高纯钼粉;YS/T1844-2026;有色金属行业标准;溅射靶材;杂质
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