半导体制造光刻机发展分析.pdfVIP

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  • 2026-09-17 发布于江西
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子工业专用设备

EquipmentforElectronicProductsManufacturing趋势与展望

导体制造光刻机发展分析

柳滨

(中国电子科技集团公司第四十五研究所袁北京100176)

摘要析了半导体产业国际国内市场状况研究了光刻机国际国内市场状况尧竞争企业状况曰

同时从生产线应用配置尧细技术尧行业应用尧竞争因素尧主要技术与供应链尧技术发展趋势等角

度对光刻机产业发展状况进行了深入分析并对国内光刻机的发展进行思考遥

关键词半导体制造曰光刻机曰市场状况曰产业状况曰发展趋势

中图分类号TN305.7文献标志码A文章编号1004-4507(2023)05-0001-11

AnalysisontheDevelopmentofLithographyEquipment

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