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2026版《集成电路布图设计保护条例（修订）》核心要点

目录

CONTENTS

01

修订背景与意义

02

保护客体界定

03

登记与确权制度

04

专有权内容与限制

05

侵权判定与救济

06

执法与法律责任

修订背景与意义

01

技术迭代加速

随着集成电路技术和产业快速发展，现行条例已难以满足实践需要，亟需通过修订提供与时俱进的法治保障。

前沿赛道布局

为光电融合与量子芯片构建知识产权保护底座，将保护范围延伸至光子、量子集成电路布图设计。

创新成果转化

促进布图设计运用与转化，完善转让、许可、出质要求，规范共有人权利行使，激发产业创新活力。

制度支撑升级

作为自2001年颁布实施以来的首次全面系统修订，新条例为国产芯片设计产业升级提供坚实的制度支撑。

诚实信用引导

强调诚实信用原则，规制虚假申请行为，确保布图设计登记申请以真实创作活动为基础。

产业技术发展需求

01

02

03

04

05

国际规则接轨要求

新条例与国内现行有关法律法规进行统筹协调，构建严密完备的新兴领域知识产权法治保障体系。

修订工作注重与有关国际条约做好衔接，确保我国集成电路布图设计保护制度与国际规则协调一致。

通过完善独创性声明要求及权利范围界定标准，使国内保护水平与国际前沿知识产权保护实践相接轨。

通过强化集成电路布图设计保护和运用，为国内企业参与国际市场竞争和技术交流提供法律支撑。

国际条约衔接

法律