CN120111911A 一种半导体器件及其制作方法 （上海埃积半导体有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN120111911A

(43)申请公布日2025.06.06

(21)申请号202510276176.8H10D62/10(2025.01)

(22)申请日2025.03.10

(66)本国优先权数据

202411433033.52024.10.15CN

(71)申请人上海埃积半导体有限公司

地址200120上海市浦东新区中国(上海)

自由贸易试验区博霞路22号、亮秀路9

号412室

(72)发明人程炜涛姚阳

(74)专利代理机构上海硕力知识产权代理事务

所(特殊普通合伙)31251

专利代理师童素珠

(51)Int.Cl.