DNA折纸技术在纳米光电子学中的应用研究综述.docVIP

DNA折纸技术在纳米光电子学中的应用研究综述

一、DNA折纸技术原理与技术特性

DNA折纸技术由美国加州理工学院PaulRothemund于2006年首次提出，其核心是利用DNA碱基互补配对的特异性，通过人工设计的短链“订书钉链”将长的单链DNA支架链折叠、组装成预先设计的任意二维或三维纳米结构。与传统的自上而下纳米加工技术相比，DNA折纸技术具有三大核心特性：一是超高空间分辨率，结构定位精度可达0.5纳米级别，能够在纳米尺度实现对功能单元的精确空间排布，分辨率远超光刻、电子束刻蚀等传统微纳加工技术的极限；二是可编程性，通过修改订书钉链的碱基序列即可对结构的形状、尺寸、表面修饰位点进行定制化设计，理论上可实现任意复杂纳米结构的可控合成；三是可扩展性，既可以通过模块化组装实现百纳米甚至微米级结构的构建，也能够与金属纳米颗粒、量子点、碳纳米管等多种功能材料进行共价或非共价偶联，为功能纳米器件的构建提供通用的组装平台。

经过十余年的发展，DNA折纸技术的合成效率、结构稳定性和可修饰性已得到显著提升。目前二维DNA折纸结构的产率可达90%以上，三维结构产率也普遍超过50%；通过化学修饰（如磷硫酰化修饰、L-DNA替换）或封装处理，DNA折纸结构在高盐、高温、生理溶液等复杂环境中的稳定性可提升数十倍；而表面位点的正交修饰技术则实现了多种功能分子在同一DNA折纸结构上的定点、定量负载，为其在