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用于减少光刻过程中反射与驻波效应的顶部抗反射涂层材料性能要求、涂布工艺及对光刻对比度的改善研究

摘要

本报告聚焦半导体光刻胶顶部抗反射涂层（TopAnti-ReflectiveCoating,TARC）领域，系统分析了该材料在先进光刻工艺中的核心功能、性能要求、涂布工艺及对光刻对比度的改善机制。

研究发现，TARC通过在光刻胶顶部形成一层折射率匹配的薄膜，能有效抑制曝光光线在光刻胶-空气界面的反射，从而消除由入射光与反射光干涉产生的驻波效应。这一功能直接提升了光刻对比度，改善了关键尺寸（CD）均匀性和线边缘粗糙度（LER），是193nmArF浸没式光刻及更先进节点中不可或缺的材料。

市场层面，全球TARC市场在2023年规模约为1.8亿美元，预计至2028年将以年均6.5%的复合增长率增长至2.5亿美元。增长动力主要来自先进制程（7nm及以下）产能扩张、多层光刻工艺复杂度提升，以及对成像质量日益严苛的要求。竞争格局呈现高度集中态势，东京应化（TOK）、杜邦（DuPont）、JSR及Merck等头部企业占据超过80%的市场份额，其竞争焦点正从基础折射率匹配转向对高深宽比结构、超薄涂层均匀性及显影兼容性的极致优化。

本报告通过产业链分析、竞争格局拆解、需求端洞察及趋势预判，最终提出：TARC材料正从“可选辅助层”演变为“关键成像增强层”，其与光刻胶的一体化协同