原创力文档六氟化钨化学气相沉积钨膜的应用说明和协议 Application Notes and Protocols for Tungsten Film Deposition via Chemical Vapor Deposition using Tungsten Hexafluoride.pdfVIP
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- 2026-10-10 发布于广东
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ApplicationNotesandProtocolsforTungsten
FilmDepositionviaChemicalVaporDeposition
usingTungstenHexafluoride
Author:BenchChemTechnicalSupportTeam.Date:May2026
CompoundofInterest
CompoundName:Tungstenhexafluoride
CASNo.:7783-82-6
Cat.No.:B1630381
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