原创力文档使用六氟化钨（WF6）的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的应用和协议指南 Application and Protocol Guide for PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) using Tungsten Hexafluoride (WF6).pdfVIP
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- 2026-10-10 发布于广东
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ApplicationandProtocolGuideforPlasma-
EnhancedChemicalVaporDeposition(PECVD)
usingTungstenHexafluoride(WF6)
Author:BenchChemTechnicalSupportTeam.Date:May2026
CompoundofInterest
CompoundName:Tungstenhexafluoride
CASNo.:7783-82-6
Cat.No.:B1630381
Ge
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