《高纯铬靶材标准》.docxVIP

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高纯铬靶材

1范围

本文件规定了高纯铬靶材的分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件和订货单内容。

本文件适用于光掩膜版等电子薄膜领域所需的高纯铬靶材。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。

GB/T1031产品几何技术规范（GPS)表面结构轮廓法表面粗糙度参数及其数值

GB/T1184形状和位置公差未注公差值

GB/T1804一般公差未注公差的线性和角度尺寸的公差

GB/T3850致密烧结金属材料与硬质合金密度测定方法

GB/T6394金属平均晶粒度测定方法

GB/T8651金属板材超声板波探伤方法

GB/T14265金属材料中氢、氧、氮、碳和硫分析方法通则

GB/T25915.1洁净室及相关受控环境第1部分：按粒子浓度划分空气洁净度等级

GB/T39159集成电路用高纯铜合金靶材

YS/T837溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法

YB∕T6158金属铬痕量杂质元素含量的测定辉光放电质谱法

3术语和定义

GB/T39159-2020界定的术语和定义适用于本文件。

4产品分类

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