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光学薄膜技术（第4版）课件 3.3热蒸发镀膜技术.ppt

光学薄膜技术（第4版）课件 3.3热蒸发镀膜技术.ppt

    *离子镀的特点1.膜层附着力强——注入和溅射所致。2.绕镀性好——原理上，电力线所到之处皆可镀上膜层，有利于面形复杂零件膜层的镀制。3.膜层致密——高能离子轰击破坏了膜层柱状结构的形成。4.成膜速率高——热蒸发的成膜速率。5.可在任何材料的工件上镀膜——绝缘体可施加高频电场。***潘永强教授*第三章

    光学薄膜制造技术（真空镀膜技术））镀膜制备方法湿法（液相法）化学气相沉积（CVD）化学溶液镀法常压CVD低压CVD光CVD金属有机物CVDPECVD热蒸发离子束辅助蒸发溅射离子镀(PhysicalVaporDepos

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