CN119307985A 一种高延伸的超薄电解铜箔用添加剂及电解铜箔制备工艺 (陕西未来尖端材料科技有限公司).pdfVIP

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  • 2026-10-12 发布于重庆
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CN119307985A 一种高延伸的超薄电解铜箔用添加剂及电解铜箔制备工艺 (陕西未来尖端材料科技有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119307985A

(43)申请公布日2025.01.14

(21)申请号202411464653.5

(22)申请日2024.10.21

(71)申请人陕西未来尖端材料科技有限公司

地址713300陕西省咸阳市乾县工业园区

未来大道1号

(72)发明人全德镐金钟权崔凤皎全南旭

(74)专利代理机构陕西科亿云知识产权代理事

务所(普通合伙)61288

专利代理师翟小梅宋秀珍

(51)Int.Cl.

C25D1/04(2006.01)

C25D3/38(2006.01)

权利要求书1页说明书4页

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