电子级三氯氢硅的化学气相沉积评价方法标准立项发展报告
StandardizationDevelopmentReport:EvaluationMethodforChemicalVaporDepositionofElectronic-GradeTrichlorosilane
标准编号:YS/T1740-2025|标准性质:推荐性行业标准|归口单位:全国有色金属标准化技术委员会|发布日期:2025年4月10日|实施日期:2025年11月1日|标准状态:现行
摘要
三氯氢硅(SiHCl?)是半导体硅外延、高纯多晶硅制备及碳化硅涂层等化学气相沉积(CVD)工
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