SEMI F75-23 半导体制造超纯水质量监测指南（中文版详细解读）.docxVIP

SEMIF75-23半导体制造超纯水质量监测指南（中文版详细解读）

前言

SEMIF75《GuideforQualityMonitoringofUltrapureWaterUsedinSemiconductorManufacturing》，2023版，是半导体晶圆厂超纯水（UPW）监测体系的纲领性指南。本标准不定义水质指标限值（限值在SEMIF63），核心目标是指导企业建立从原水、制水终端、管网输送POD，直到机台使用点POU的全链路监测方案，确定监测点位、监测项目、在线/离线采样频次、分析方法、报警与行动限值、污染溯源机制，控制超纯水杂质（颗粒、金属离子、阴阳离子、TOC、溶解氧、细菌、二氧化硅等），降低杂质引发的晶圆良率损失。

适用范围：半导体湿法清洗、晶圆漂洗、化学品稀释用超纯水，含常温超纯水UPW与高温超纯水HUPW；覆盖制水站、输送管网、机台使用点。

1术语与定义

UPW超纯水：半导体工艺用高纯度水，经多级纯化处理，用于晶圆清洗、蚀刻后漂洗、药液配制。

POD（PointofDistribution）分配点：超纯水制备系统末端，管网输送起点（终端过滤器出口）。

POU（PointofUse使用点）：机台入口、清洗槽进水口，最关键监测点；F75重点强调：POU水质会受输送管道、机台管路、阀门、过滤器溶出影响，P