半导体物理 课件 第八章 半导体表面与MIS结构 .pptx

半导体物理

第八章半导体表面与MIS结构钟慧

MIS结构的应用nMOS器件工作电路偏置可变电阻电子开关电流放大器MOSFETIC的主流器件沟道———MOSFET的“灵魂”MIS结构:(Metal-Insulator-Semiconductor)3

MIS结构的应用理想MIS的平带剖面图图8.4理想MIS结构热平衡时的能带图(平带)4

MIS结构的应用MIS结构只可测C-V电学性能：监控集成电路生产制造工艺研究界面物理研究MIS晶体管可靠性物理及失效机理5图8.14P型半导体的MIS结构的C-V特性的频率效应

MIS结构的应用C-V特性曲线可获知的器件参数：②绝缘层厚度