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- 2026-10-30 发布于河北
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模拟电路核心考点与习题解析
题库(含详细答案解析)
(共160题单选/多选/判断/简答含详细答案解析)
一、单项选择题(本大题共110小题,每小题2分,共220分)
1.本征半导体中自由电子浓度与空穴浓度的关系是:()
A.自由电子浓度远大于空穴浓度
B.自由电子浓度远小于空穴浓度
C.两者浓度相等
D.两者浓度之比等于禁带宽度
2.N型半导体中的多数载流子是:()
A.空穴B.自由电子C.负离子D.正离子
3.PN结内建电场的形成原因是:()
A.外加正向电压的推动
B.扩散运动使结两侧形成不能移动的离子区
C.漂移运动使载流子全部耗尽
D.金属与半导体接触产生的势垒
4.PN结加正向电压时,其空间电荷区(耗尽层)将:()
A.变宽,内建电场增强
B.变窄,内建电场减弱
C.宽度不变,仅电场方向改变
D.完全消失,内建电场为零
5.PN结的反向饱和电流主要决定于:()
A.外加反向电压的大小
B.正向电流的大小
C.温度与少子浓度
D.PN结的几何面积与正向压降
6.当PN结反向电压增大到一定值时,反向电流急剧增大,该现象称为:()
A.正向导通B.反向击穿C.电容效应D.扩散效应
7.稳压二极管正常稳压工作时,应工作在:()
A.正向导通区B.截止区C.反向击穿区D.正向死区
8.硅二极管的正向导通压降约为:()
A.0.
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