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Total189铜业工程总第189期

No.52024COPPERENGINEERING2024年第5期

四氢噻唑硫酮对锂电铜箔抗拉强度影响分析

付争兵，陈星，童凯文，王伟

（江西鑫铂瑞科技股份有限公司江西鹰潭335000）

摘要：高抗拉强度铜箔能满足高能量密度电池的辊压生产工艺要求。在正常生产6µm超薄铜箔的添加剂中加入光亮剂四氢噻唑硫酮，测试

所得铜箔的光泽度、抗拉强度和粗糙度等物理性能，并对铜箔进行X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）和3D超景深测试分析。当四氢噻唑

硫酮添加量为原配方中光亮剂聚二硫二丙烷磺酸钠质量的10%时，得到的铜箔抗拉强度最高，达到420MPa。四氢噻唑硫酮中含有不饱和双

32＋

键和N原子，吸附在阴极辊表面后，强大的负电场对p电子产生排斥作用，使电子给